X-ray Diffraction at Elevated Temperatures: A Method for In Situ Process Analysis

Deborah D. L. Chung, etc.

Anno: 1993
Rilegatura: Hardback
Pagine: 268 p.
Dimensioni: 241 x 160 mm
Peso: 560 gr.
  • EAN: 9780471187264
Approfitta delle promozioni attive su questo prodotto:

€ 293,83

€ 345,68

Risparmi € 51,85 (15%)

Venduto e spedito da IBS

294 punti Premium

Attualmente non disponibile Inserisci la tua email
ti avviseremo quando sarà disponibile