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LIBRO INGLESE

Chemical Vapor Deposition (CVD): Methods and Technologies

Levi Karlsson (Curatore)

Nova Science Publishers Inc, 2021

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Descrizione

Chemical vapor deposition (CVD) refers to a vacuum deposition method used to produce high quality, high-performance, solid materials in a variety of manufacturing industries. Chapter One provides a critical review of published experimental data for thin films of silicon nitride deposited by thermal and plasma CVD, plasma CVD, high density plasma CVD, atomic layer-by-layer deposition, and hot-wire CVD. Chapter Two describes several aspects of the use of CVD for single-crystal diamond synthesis for electronics. Chapter Three describes the properties of graphene and its preparation by a number of methods with a focus on the classical CVD method on copper foil together with graphene transfer onto a dielectric substrate.

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Dettagli

Curatore:

Levi Karlsson

Editore:

Nova Science Publishers Inc

Anno:

2021

Rilegatura:

Hardback

Pagine:

208 p.

Testo in English

Peso:

418 gr.

EAN:

9781536199499

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