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Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications - cover

LIBRO INGLESE

Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications

M. L. Hitchman (Curatore)

K. F. Jensen (Curatore)

Elsevier Science Publishing Co Inc, 1993

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Descrizione

This wide-ranging volume covers recent developments in the theoretical understanding of the chemistry and physics of chemical vapour deposition (CVD). Contributors are drawn from both academia and industry to achieve a balaced coverage of the subject. The volume emphasizes principles and understanding rather than details of specific materials or processes. Specific examples are given to illustrate the principles.

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Dettagli

Curatore:

M. L. Hitchman, K. F. Jensen

Editore:

Elsevier Science Publishing Co Inc

Anno:

1993

Rilegatura:

Hardback

Pagine:

677 p.

Testo in English

Dimensioni:

229 x 152 mm

Peso:

1150 gr.

EAN:

9780123496706

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