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Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon

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Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon

Wiley-ISTE, 2013

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Descrizione

This book describes up-to-date technology applied to high-K materials for More Than Moore applications, i.e. microsystems applied to microelectronics core technologies. After detailing the basic thermodynamic theory applied to high-K dielectrics thin films including extrinsic effects, this book emphasizes the specificity of thin films. Deposition and patterning technologies are then presented. A whole chapter is dedicated to the major role played in the field by X-Ray Diffraction characterization, and other characterization techniques are also described such as Radio frequency characterization. An in-depth study of the influence of leakage currents is performed together with reliability discussion. Three applicative chapters cover integrated capacitors, variables capacitors and ferroelectric memories. The final chapter deals with a reasonably new research field, multiferroic thin films.

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Dettagli

Curatore:

Emmanuel Defaÿ

Anno edizione:

2013

Editore:

Wiley-ISTE

Formato:

EPUB2 con Adobe DRM

Lingua:

Inglese

Compatibilità:

Tutti i dispositivi (eccetto Kindle) Scopri di più

Layout:

Reflowable

EAN:

9781118602805

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