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High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects: 0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python - H Wu - cover

LIBRO INGLESE

High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects: 0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python

Name: High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects: 0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python
Price: 122.61 EUR
Availability: InStock
Author: H Wu
ISBN: 8279044078

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Independently Published, 2025

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Dettagli

Autore:

H Wu

Editore:

Independently Published

Collana:

Computational Mathematics Library

Anno:

2025

Rilegatura:

Paperback / softback

Pagine:

342 p.

Testo in English

Dimensioni:

279 x 216 mm

Peso:

794 gr.

EAN:

9798279044078

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