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Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers: Secrets of VLSI Manufacturing - cover

LIBRO INGLESE

Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers: Secrets of VLSI Manufacturing

Takeshi Hattori (Curatore)

T. Hattori (Traduttore)

S. Heusler (Traduttore)

Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG, 1998

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Descrizione

A totally new concept for clean surface processing of Si wafers is introduced in this book. Some fifty distinguished researchers and engineers from the leading Japanese semiconductor companies, such as NEC, Hitachi, Toshiba, Sony and Panasonic as well as from several universities reveal to us for the first time the secrets of these highly productive institutions. They describe the techniques and equipment necessary for the preparation of clean high-quality semiconductor surfaces as a first step in high-yield/high-quality device production. This book thus opens the door to the manufacturing of reliable nanoscale devices and will be extremely useful for every engineer, physicist and technician involved in the production of silicon semiconductor devices.

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Dettagli

Traduttore:

T. Hattori, S. Heusler

Curatore:

Takeshi Hattori

Editore:

Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG

Anno:

1998

Rilegatura:

Hardback

Pagine:

616 p.

Testo in English

Dimensioni:

216 x 140 mm

EAN:

9783540616726

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