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Design for Manufacturability with Advanced Lithography - Bei Yu,David Z. Pan - cover
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Design for Manufacturability with Advanced Lithography
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Design for Manufacturability with Advanced Lithography - Bei Yu,David Z. Pan - cover

Descrizione


This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.
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Dettagli

2016
Paperback / softback
164 p.
Testo in English
235 x 155 mm
9783319373935
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