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Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS - Charles Chiang,Jamil Kawa - cover

LIBRO INGLESE

Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS

Name: Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS
Price: 186.90 EUR
Availability: InStock
Author: Charles Chiang
ISBN: 9048173035

di Charles Chiang (Autore)

Jamil Kawa (Autore)

Springer, 2010

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Descrizione

Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process and how to address each aspect at the proper design step starting with the design and layout of standard cells and how to yield-grade libraries for critical area and lithography artifacts through place and route, CMP model based simulation and dummy-fill insertion, mask planning, simulation and manufacturing, and through statistical design and statistical timing closure of the design. It alerts the designer to the pitfalls to watch for and to the good practices that can enhance a design’s manufacturability and yield. This book is a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development.

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Dettagli

Autore:

Charles Chiang, Jamil Kawa

Editore:

Springer

Collana:

Integrated Circuits and Systems

Anno:

2010

Rilegatura:

Paperback / softback

Pagine:

255 p.

Testo in English

Dimensioni:

235 x 155 mm

EAN:

9789048173037

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Per informazioni sulla sicurezza dei prodotti, contattare productsafetyibs@feltrinelli.it

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