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Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies - Mohamed Elgamel,Magdy A. Bayoumi - cover

LIBRO INGLESE

Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies

Name: Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies
Price: 175.30 EUR
Availability: InStock
Author: Mohamed Elgamel
ISBN: 1441938443

di Mohamed Elgamel (Autore)

Magdy A. Bayoumi (Autore)

Springer-Verlag New York Inc., 2010

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Descrizione

Interconnect has become the dominating factor in determining system performance in nanometer technologies. Dedicated to this subject, Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies provides insight and intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high complexity integrated circuits. The authors bring together a wealth of information presenting a range of CAD algorithms and techniques for synthesizing and optimizing interconnect. Practical aspects of the algorithms and the models are explained with sufficient details. The book investigates the most effective parameters in layout optimization. Different post-layout optimization techniques with complexity analysis and benchmarks tests are provided. The impact crosstalk noise and coupling on the wire delay is analyzed. Parameters that affect signal integrity are also considered.

Dettagli

Autore:

Mohamed Elgamel, Magdy A. Bayoumi

Editore:

Springer-Verlag New York Inc.

Anno:

2010

Rilegatura:

Paperback / softback

Pagine:

137 p.

Testo in English

Dimensioni:

235 x 155 mm

EAN:

9781441938442

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