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EBOOK IN LINGUA STRANIERA

Atomic Layer Deposition

di David Cameron (Autore)

Marja-Leena Kääriäinen (Autore)

Tommi Kääriäinen (Autore)

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Wiley-Scrivener, 2013

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Descrizione

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

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Dettagli

Autore:

David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, Tommi Kääriäinen

Anno edizione:

2013

Editore:

Wiley-Scrivener

Formato:

EPUB2 con Adobe DRM

Lingua:

Inglese

Compatibilità:

Tutti i dispositivi (eccetto Kindle) Scopri di più

Layout:

Reflowable

EAN:

9781118747384

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